Plasma etching၊ chemical vapor deposition နှင့် အခြားသော လုပ်ငန်းစဉ်များအတွက် အသုံးပြုသည်။ သန့်စင်သော အောက်ဆီဂျင်သည် အော်ဂဲနစ်ပစ္စည်းများ၏ ဓာတ်တိုးမှုတွင် ပါဝင်ပါသည်။